林本坚博士以一己之力直接击沉了东洋电子产业都不为过，要知道尼康研发157nm的光源绝不是一个光源的问题，其配套的镜头、光刻胶、化学制剂、车间电路等等几乎都是全新的，差不多等于把整个晶圆生产线或者电子产业基础全都换了一遍。
得益于东洋强大的电子配套产业实力，围绕着157nm光源，东洋系电子产业链参与进去了无数的大小公司，结果都被一起打折了脊梁，在梁远偷渡之前，东洋广场协议之后，东洋经济之所以失落长达二十年之久，林本坚博士绝对功不可没。
除了憋屈死掉的157光源之外，13.5nm EUV LLC也是梁远偷渡之前人类技术上限中最有可能投入到大规模商业应用中的光源，这个阵营包括英特尔、AMD、摩托罗拉、美国能源部、ASML、英飞凌、Micron等。
1nm接近式 X 光：这个阵营包括ASET、Mitsubishi，、NEC、Toshiba，、NTT、IBM、摩托罗拉，这也是一个被林本坚博士击沉的阵营，由于实验室向来比产业界前沿的缘故，这个阵营起始于八十年末期，采用接近式曝光方式生产，原计划可以作为157光源之后的后补技术登场，到了新世纪虽然没有尼康那般倒霉刚好产品成熟，不过美日两国也各自在这个方向上投入了数十亿美元的巨资，还未问世就已经凉凉也不知道是幸还是不幸。
0.004nm EBDW 或 EPL:朗讯～贝尔实验室、IBM、佳能、尼康，ASML被邀请加入后又率先退出，这个阵营的学名叫做电子束直写技术，是所有光刻技术阵营中看起来最吊也最浪漫的那个，同样也是光刻技术的物理极限，更是方伟林的主要来意。
尼康在被ASML击败之后，曾押宝电子束直写技术拼死一搏，可惜这玩意的研发难度堪称电子行业的可控核聚变，直到梁远偷渡那一刻也没听到入坑十年的尼康搞出什么大新闻。
一般来说，科技的前沿以大学为主多从事基础科技研发，基础科技往往领先产业应用十几年甚至上百年的时间，比如爱因斯坦的质能方程和相对论，产业的前沿则是以大学定向实验室和各类企业研究所为主，实验室技术基本就是未来的工业界主流技术，往往领先工业界现有技术五至十年，比如诺基亚实验室在2000年曾经在实验室中搞出了和苹果手机类似的个人电子终端，可惜被诺基亚高管枪毙掉了。
同样，在九十年代初，从事电子产业研发的各大公司前沿实验室
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