“再见。”
电话结束了。
林晓握住手机，什么事情都没有做。
办公室中一片沉凝。
直到半晌后，他终于回过了神，但却是闭上了眼。
“系统。”
“使用【机械整体优化指导】，对当前euv光刻机，优化方向为，x光刻机，整体思路为，利用x光刻机直写式优势，通过晶体衍射效应，进而实现对x光的缩放效果，从而实现大规模生产。”
“正在进行优化，请稍后……”
林晓再次睁开了眼睛。
逝者已矣，生者如斯。
那位国安的工作人员说得很好，他们期待着他能够做出更多，以及更加重要的成就，那才显得他们的使命有意义。
那他，也不能辜负了他们的期望，尤其是那位因他而死的同志。
国外要在euv光源上进行制裁，那他就换x光。
国外要在掩膜版上进行制裁，那他就搞无掩模x光刻机。
他不会因为敌人的所作所为生气，他只会让那些敌人们后悔。
7017k
61350890
首席设计师提醒您：看完记得收藏【人本书院】 www.rbcnw.com，下次我更新您才方便继续阅读哦，期待精彩继续！您也可以用手机版：m.rbcnw.com，随时随地都可以畅阅无阻...