三点钟，会议准时开始。
他们这个小组有九个人，包括林晓在内，有四位研究员，剩下的则主要是助理研究员和实习研究员。
相对于其他一些材料的研究团队来说，这个人员的数量显然还是太低了。
当然，对于搞研究的小组来说，数量并不重要，质量更加重要，有时候一个天才的想法，就能够将研究进度给推进到最后。
而他们这个小组的人，当然就属于质量向的小组了。
林晓这个开挂的就不用说了，之前林晓打电话的那位赵升，本身除了是计算材料学方面的大脑之外，在实验上同样是一位大牛，在国内很是出名。
至于另外两位研究员，其中一位也是计算材料方面的大牛，而另外一位研究员则是实验方面的大牛。
如果不是有这三位大牛一起，林晓想要这么快就将晶体结构给确定下来，估计还需要一段时间才行。
会议室中，林晓在大屏幕上重新用软件给在场的几位展示了一下这种硅晶体在x光的照射下，对x射线的衍射图像，x光的光源是一个平面波，其经过透镜之后，最后在另外一块平面上形成了一个正方形地投影，这就是这个透镜的作用，它能够将x光的辐照范围局限于一个正方形之内。
这对于芯片的生产速度是很有效果的，毕竟现在的芯片都是正方形的，这也是为了提高晶圆的利用率，晶圆因为工艺的缘故，只能做出圆形，而为了更好地利用上这个圆形的每一块，芯片也就成为正方形了。
而x光的辐照范围变成正方形，在处理硅晶圆的时候就更加方便了，到时候再凭借着x光的强效率，届时处理芯片的速度也将大大提升，阿斯麦尔的euv光刻机每小时能够处理两百片硅晶圆，差不多每分钟3片多硅晶圆。
如果以苹果公司的a15芯片面积来算，假如忽略硅晶圆边角料的损耗，一片硅晶圆就能够生产650颗a15芯片，一个小时下来就能生产13万颗芯片，一天就是三百多万。
但是如果用上了x光源，每小时处理的硅晶圆恐怕能够轻易地达到两百片以上，说不定能够达到4片。
这就是他们的x光源一旦运用于规模生产后的优点。
而后，林晓调整参数，让上面的晶体透镜开始转动，x光也随之开始发生变化，辐照范围开始变化起来，在57.5度的时候，辐照范围便和光源大小相同，当超过57.5度的时候，辐照范围开始收敛凝聚，直到入射角转变为垂直的90度之
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