国的光刻机技术，曾经领先于世界，处于最先进的水平。
1964年我国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，我国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清大研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头asml还没诞生。
1982年，科学院109厂研制出kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平。这应当是我国第一台分步投影式光刻机，我国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
很可惜，光刻机研发至此为止，我国开始大规模引进外资，有了造不如买、科技无国界的思想。光刻技术和产业化停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消，导致20年技术积累全部付诸东流。
1994年，江城无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了。
九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致asml如此强势的关键。直到二十一世纪，我国才刚刚开始启动193纳米arf光刻机项目，足足落后asml20多年。
光刻机是采用类似照片冲印的技术，把掩膜板上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备，是制造芯片的核心装备，也是目前顶尖科技的代表。
高精度光刻机的制造工艺极其复杂，核心零件便有8万个左右，共需要超10万个零部件，因此，光刻机也有了“现代光学工业之花”的称号。如此高的制造门槛，也就导致了光刻机制造领域的玩家也寥寥无几。
还好，王林出现了。
他在1995年横空宣布，进入半导体产业。
这个时间，正好是我们电子产业即将断代的时候，也是我国光刻机产业还不是太落后于外国的时候！
王林伸出他的大手，接住了时代赋予他的半导体接力捧！
他能否带领爱秀人，在半导体领域闯出一片别样的蓝天？
40085151
拾寒阶提醒您：看完记得收藏【人本书院】 www.rbcnw.com，下次我更新您才方便继续阅读哦，期待精彩继续！您也可以用手机版：m.rbcnw.com，随时随地都可以畅阅无阻...