我们刚刚讨论的困难只是暂时的困难。”
ASML、尼康和佳能只是暂缓了在ArF上的投入，而不是停止了在ArF技术路线上的投入。
后来ASML实现弯道超车，也是因为他们选择了正确的技术路线，ArF光源以水为介质，在光刻胶上面抹一层水。
水的介质折射率是1.44，193纳米÷1.44≈134纳米，ArF光源的波长进一步减少了。
ASML能够干掉尼康和佳能，垄断光刻机领域，他们在技术路线的两个关键节点都做出了正确的选择。
应该稳健的时候他们比尼康稳健，从而在光刻机市场站稳了脚跟。
应该激进的时候他们比尼康激进，从而占据了高端市场，把高额利润全部吃掉了，后续一直保持住了技术领先。
ArF技术路线突破之后，ArF的波长是193nm，他最多能够制造65nm的芯片。
如果要制造40nm制程以下的芯片，需要找到160nm以下的光源。
尼康和佳能等企业选择的是157nm的F2激光，而ASML找到了光源做介质直接一步到位了。
当然没有加一层水那么简单。
“我关于ArF技术路线一直认为是有办法解决的。
首先是需要专门针对ArF光源设计对应的光刻胶，其次是研发抗反射涂层，然后是改进光刻机的光学系统，找蔡司定制更先进的透镜。
来实现更高的数值孔径和分辨率。
同时在曝光过程中进行优化。我专门针对ArF光源设计了一套分辨率增强技术。
包括辅助特征、离轴照明、双曝光技术等，用以改善图案传输质量和提高分辨率。”林本坚很兴奋，难得见到这么懂ArF技术的同行。
其他懂这玩意的都签了保密协议，林本坚和他们聊的很不尽兴。
华国差的不仅仅是光刻机，差的是整个高端制造业，即便能造出光刻机，光学镜头也能卡你脖子。
不过蔡司是德意志企业而且没上市，阿美利肯的长臂管辖管不到蔡司。
周新听完之后感慨对方不愧是大师级人物，还没有加入台积电已经有完整的计划了。
同样一件事，有的人是纸上谈兵，有的人是决胜千里之外。
华国价值观以结果为导向，周新知道林本坚未来的成就，更别说林本坚说的这些都是绝对的干货。
又和林本坚探
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