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第四百二十四章 新品发布-第四百二十六章 组合拳

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心疯了,开始胡吹大气。

“绝不可能!就算他们的架构再强也达不到这种数字!”

“EdA的优化已经到位了,不可能差距这么大!”

“疯了吗?”

“这是增加了芯片体积?”随后,随着红后的手指划过,芯片的最后一个参数也出现在了所有人眼前。

工艺,2nm!如今经典比特结构的超导计算机芯片都已经开始撸了,丢出一些普通工艺的EUV硅基芯片,其实也无所谓。

这只是能拿出来见人的牛夫人而已。不,是连牛夫人都不如……可即便如此,更高的工艺,更完美的架构,更强的良品率,各方面都全面完成了‘暴打’!

之前各大西方媒体都还在吹嘘大漂亮放宽了制裁,释放了‘善意’。可结果,你们原本制裁最厉害的东西,原本引以为傲的芯片工艺,人家自己已经完成了突破!

这边才火急火燎的勉强弄出5nm,而且良品率什么的还提升不上去。

结果人家反手就掏出了2nm工艺,还在架构上完全吊打其他产品。就这?

你们还制裁人家?谁制裁谁哦!而安布雷拉既然胆敢在新闻发布会上发出这消息,按照以往的经验就不可能有问题!

“哈哈哈!我就说安布雷拉自己也能做出EUV光刻机!”

“他们可就是镜头起家的!”

“不过真的是厉害啊,上次阿斯麦汇聚了那么一群人,拍了个什么‘与世界为敌’,结果直接变小丑了?”

“有一说一,这么多工艺是怎么克服的?这可不单单是一个镜头问题,光源呢?”

“人家安布雷拉掌握了‘魔力’的运用啊!”

“就目前来说‘魔力’也是要讲究基本规则的,这次是真的看不懂。”随后红后也直接大大方方的把自家光刻机的结构图,在直播间了投影了出来

“这就是我们的EUV光刻机,其实,可能比阿斯麦造出来的要早一点。”业内的看着红后弄出的效果图,都不由擦了擦眼角。

是不是搞错了什么,这不是dUV光刻机的结构吗?阿斯麦的EUV光刻机靠着反射聚焦,重量可是提升了三倍,结构也复杂得多。

可安布雷拉掏出来的,感觉就是一台更皮实一些的dUV。

“我们只是在镜片领域又有了一点小突破,靠着‘魔力’的影响,制造出了能够让极紫外线通过的镜片而已,我们反导能力这么强,其实你们应该也能猜到吧?没猜到吗?


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